前道芯片制造光刻机
先进封装光刻机
高精度温度控制装置
硅片传输系统
英文
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SSA600/10型步进扫描投影光刻机用于集成电路前道工艺,可满足用户100nm工艺节点的需求。该设备采用高性能193nmArF准分子激光光源,结合大数值孔径投影物镜和离轴照明技术,可实现高分辨率和高工艺稳定性;可变数值孔径和多种照明模式可满足不同光刻分辨率和焦深要求;大曝光视场、快速对准技术和高同步扫描速度,可实现高生产率、高性能掩模对准和硅片对准技术以及高精度工件台掩模台控制精度,可满足高套刻精度要求。
SSA600/10
型步进扫描投影光刻机具有以下优良特性:
高性能
193nm ArF
准分子激光光源
高性能投影物镜系统,最大数值孔径
0.75
支持离轴照明等多种分辨率增强技术,最高分辨率
100nm
高速全场对准和高速同步扫描曝光实现高产率
高精度掩模对准和硅片对准系统,对不同硅片工艺具有良好的工艺适应性
高精度六自由度掩模台
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工件台定位控制系统
高性能、高可靠性、低生产成本(COO)
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