2016年2月22日-2月25日，国际光学工程学会（SPIE）举办的先进光刻主题研讨会在美国召开。

      今年，我司派出的技术交流团队结合公司产品战略和研发方向，深入开展l了调研分析，通过与全球顶尖技术专家交流，了解了目前国际在相关领域的研发进展、技术问题以及战略决策，不仅对于光刻设备最新进展有了更加明确的掌握，同时对于上下游相关工艺应用、技术整合、测量方案以及替代性技术都有了比较深入的理解。