3月14日，SEMICON China 2018国际半导体展在新国际博览中心隆重开幕，SMEE全方位展出了IC、平板显示、LED、MEMS、功率器件领域的相关设备以及整体解决方案，获得众多国内外新老客户关注，吸引了业界专业人士前来咨询、洽谈。同时借展会契机，SMEE推出全新一代超高产率、高精度LED步进投影光刻机——SSB380/10A光刻机。该设备分辨率达1.5微米，拥有53.5mm*33mm超大曝光视场；可以在2/4/6英寸基底之间自适应切换，兼容蓝宝石、硅片、碳化硅、砷化镓等多种材料基底，并支持单平边、双平边、Notch等基底规格。此外，SSB380/10A光刻机还增配可变狭缝、红外对准、背面可见光对准等选配项，满足客户特殊工艺需求。

展会同期，公司副总经理陈勇辉博士在“2018中国显示大会——新兴显示论坛”上作了精彩演讲，阐述FPD行业趋势，展望国产高精密显示制造设备未来发展，并与参会专家和业内人士做了深入交流，获得一致好评。