SMEE将于2019年9月17日～21日亮相在上海国家会展中心举办的第21届中国国际工业博览会，届时将带来IC前道光刻机、FPD光刻机以及整体解决方案，为半导体高端装备领域注入新动力。公司资深工程技术团队也将亲临展会现场，与业界朋友现场相互学习交流，诚邀您莅临参观指导！

展览时间：2019年9月17日～21日

展览地点：上海国家会展中心

展位号：5.2H-E100、6.2H-中心展区