7月15日，由国家知识产权局和世界知识产权组织共同评选的第二十一届中国专利奖正式发布授奖决定，我司发明专利“一种步进光刻设备及光刻曝光方法（ZL201110241791.3）”荣获第二十一届中国专利优秀奖，这也是我司获得的第九项中国专利优秀奖。