国家重大科技成就展于2017年4月20日-22日在上海世博展览馆举行，此次展会集中展示我国科技创新“十二五”辉煌成就，我司SSA600/20 ArF步进扫描投影光刻机亮相国家重大科技成就展。

高端扫描光刻机被誉为集成电路产业皇冠上的“明珠”，集精密光学、机械、控制、材料等先进科学技术和工程技术于一体，是集成电路制造装备中技术难度最高、价格最昂贵的核心设备。SSA600/20 ArF步进扫描投影光刻机面向超大规模集成电路量产制造领域，兼容200mm和300mm硅片，满足先进90nm工艺节点光刻。